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型號(hào):

XAU-4C光譜分析儀

描述:XAU-4C光譜分析儀性能優(yōu)勢:1.微小樣品檢測:最小測量面積0.03mm²(加長測量時(shí)間可小至0.01mm²)2.變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm3.EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量。 4.*解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間

    2024-04-27
  • 訪問量

    993
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌行業(yè)專用類型通用
價(jià)格區(qū)間面議儀器種類臺(tái)式/落地式
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,印刷包裝

XAU-4C光譜分析儀

性能優(yōu)勢:1.微小樣品檢測:最小測量面積0.03mm2(加長測量時(shí)間可小至0.01mm2)2.變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm3.EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量。   4.*解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。   5.高性能探測器:S

  • 測量面積:最小0.03mm2

  • 鍍層分析:23層鍍層24種元素

  • 儀器特點(diǎn):RoHS鹵素有害元素檢測

  • 儀器優(yōu)勢:同元素不同層分析



儀器簡介:

XAU-4C光譜分析儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測量使用。


產(chǎn)品優(yōu)勢:

  • 微小樣品檢測:最小測量面積0.03mm2(加長測量時(shí)間可小至0.01mm2)

  • 變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm

  • 自主研發(fā)的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精確測量

  • *解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限

  • 高性能探測器:SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

  • 光路系統(tǒng):微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚集

  • 多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換


應(yīng)用領(lǐng)域:

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬檢測、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域。

XAU.jpg


多元迭代EFP核心算法ZL號(hào):2017SR567637)

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

有害元素檢測:RoHS檢測,可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價(jià)鉻(Cr VI)等有害元素的成分檢測及含量分析


技術(shù)參數(shù):

1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

2. 成分檢出限:1ppm

3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

4. 涂鍍層檢出限:0.005μm

5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm(最小測量面積0.03mm2)

    標(biāo)配:最小測量直徑0.3mm(最小測量面積0.07mm2)

6. 對(duì)焦距離:0-30mm

7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量:45KG

10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍:50mm*50mm

11. XY軸工作臺(tái)最大承重:5KG



選擇一六儀器的四大理由:

1.一機(jī)多用,無損檢測(涂鍍層檢測-環(huán)保RoHS-成分分析)

2.最小測量面積0.002mm2

3.可檢測凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測


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