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型號(hào):

X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000

描述:覆層的厚度測量已成為金屬加工工業(yè)進(jìn)行成品質(zhì)量檢測*的重要的工序,目前國內(nèi)外已普遍按統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)測定涂鍍層厚度,《中華人民共和國計(jì)量法》對(duì)X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000也提出了技術(shù)要求。膜厚儀的選擇隨著材料物理性質(zhì)研究方面的逐漸進(jìn)步而更加至關(guān)重要。

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間

    2024-04-28
  • 訪問量

    697
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,印刷包裝

儀器簡介:

XD鍍層測厚儀是一款專用于檢測各種異形件,特別適用于五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

該系列儀器不但可以應(yīng)對(duì)平面、微小樣品的檢測,在面對(duì)凹槽曲面深度0-90mm以內(nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢:

  • *EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量

  • 上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測量

  • 自動(dòng)對(duì)焦:高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦

  • 變焦裝置算法:可對(duì)0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測

  • 小面積測量:最小測量面積0.002mm2

  • 可編程自動(dòng)位移:選配自動(dòng)平臺(tái),X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動(dòng)測量


喬邦XRF電鍍層測厚儀價(jià)格性能特點(diǎn)


專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。



喬邦XRF電鍍層測厚儀價(jià)格技術(shù)指標(biāo)


型號(hào):XD-1000 XRF鍍層膜厚測試儀

1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)

3. 厚度檢出限:0.005μm

4. 成分檢出限:1ppm

5. 最小測量直徑0.05mm(最小測量面積0.002mm2)

6. 對(duì)焦距離:0-90mm

7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*150mm

8. 儀器尺寸:760mm*550mm*635mm

9. 儀器重量:100KG

選擇一六儀器的四大理由:

1.一機(jī)多用,無損檢測

2.最小測量面積0.002mm2

3.可檢測凹槽0-90mm的異形件

4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測

影響膜厚儀準(zhǔn)確度的因素有以下幾種:

1.曲率:不應(yīng)在試件的彎曲表面上測量。

2.讀數(shù)次數(shù):通常由于x熒光鍍層膜厚測厚儀的每次讀數(shù)并不*相同,因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測量,表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。

3.基體金屬特性:對(duì)于磁性方法,標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度,應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙4.度相似;對(duì)于渦流方法,標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì),應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

5.表面清潔度:測量前,應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。

6.基體金屬厚度:檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度,無損檢測資源網(wǎng)如果沒有,可采用其他方法進(jìn)行校準(zhǔn)。

7.邊緣效應(yīng):不應(yīng)在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測量。

 

X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000性能特點(diǎn)

 

滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求

φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測試點(diǎn)的需求

高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測試高度

定位激光確定定位光斑,確保測試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測點(diǎn)

高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

良好的射線屏蔽作用

測試口高度敏感性傳感器保護(hù)

 

X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000技術(shù)指標(biāo)

 

型號(hào):XD-1000

元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。

同時(shí)可以分析30種以上元素,五層鍍層。

分析含量一般為ppm到99.9% 。

鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。

多變量非線性回收程序

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm

樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm

重量:100kg

 







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