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描述:覆層的厚度測量已成為金屬加工工業(yè)進(jìn)行成品質(zhì)量檢測*的重要的工序,目前國內(nèi)外已普遍按統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)測定涂鍍層厚度,《中華人民共和國計(jì)量法》對(duì)X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000也提出了技術(shù)要求。膜厚儀的選擇隨著材料物理性質(zhì)研究方面的逐漸進(jìn)步而更加至關(guān)重要。
廠商性質(zhì)
經(jīng)銷商更新時(shí)間
2024-04-28訪問量
697品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,印刷包裝 |
儀器簡介:
喬邦XRF電鍍層測厚儀價(jià)格性能特點(diǎn)
喬邦XRF電鍍層測厚儀價(jià)格技術(shù)指標(biāo)
型號(hào):XD-1000 XRF鍍層膜厚測試儀
影響膜厚儀準(zhǔn)確度的因素有以下幾種:
1.曲率:不應(yīng)在試件的彎曲表面上測量。
2.讀數(shù)次數(shù):通常由于x熒光鍍層膜厚測厚儀的每次讀數(shù)并不*相同,因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測量,表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。
3.基體金屬特性:對(duì)于磁性方法,標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度,應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙4.度相似;對(duì)于渦流方法,標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì),應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。
5.表面清潔度:測量前,應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。
6.基體金屬厚度:檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度,無損檢測資源網(wǎng)如果沒有,可采用其他方法進(jìn)行校準(zhǔn)。
7.邊緣效應(yīng):不應(yīng)在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測量。
X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000性能特點(diǎn)
滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測試點(diǎn)的需求
高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測試高度
定位激光確定定位光斑,確保測試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測試口高度敏感性傳感器保護(hù)
X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000技術(shù)指標(biāo)
型號(hào):XD-1000
元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。
同時(shí)可以分析30種以上元素,五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm
重量:100kg
產(chǎn)品分類
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